반도체가 자라는 ‘시작점’까지 설계… 고집적·저전력 인공지능 반도체 구현의 새 길

과학기술정보통신부가 2026-10-11 공개한 자료를 바탕으로 반도체가 자라는 ‘시작점’까지 설계… 고집적·저전력 인공지능 반도체 구현의 새 길의 목적과 협력 내용을 정리했습니다. 신청형 지원 안내가 아닌 협약·행사 정보입니다.

반도체가 자라는 ‘시작점’까지 설계… 고집적·저전력 인공지능 반도체 구현의 새 길은 왜 추진됐나요?

국내 연구진이 반도체 결정의 생성 위치를 정하고, 그곳에서 하나의 결정만 자라도록 제어하는 기술을 개발해 차세대 적층형 AI인공지능 반도체 구현을 위한 기반을 마련했다.

반도체가 자라는 ‘시작점’까지 설계… 고집적·저전력 인공지능 반도체 구현의 새 길에서 맡은 협력 역할은 무엇인가요?

• 과학기술정보통신부(부총리 겸 과학기술정보통신부 장관 배경훈, 이하 '과기정통부')는 한국과학기술원(KAIST) 강기범 교수와 울산과학기술원(UNIST) 김병조 교수, 한양대학교 김우희 교수, 티디에스이노베이션(TDS Innovation) 등이 참여한 공동연구팀이 산화물 장벽에서 나오는 화학 성분을 이용해 2차원 반도체 결정의 생성 위치를 정밀하게 제어하는 새로운 반도체 소재 성장 기술을 개발했다고 밝혔다.
• 과기정통부의 개인기초연구개인 기초연구 사업과 나노소재기술개발나노소재 기술개발 사업 등의 지원으로 수행한 이번 연구 성과는 세계 최고 권위의 학술지인 「네이처(Nature)」에 10월 8일(목) 자정(현지 시간각 10.7.(수) 16시, 영국 일광 절약시간 ) 게재*됐다.
• 논문명 : Spatially deterministic nucleation of 2D semiconductors by etching flux 원자층 수준으로 얇은 두께를 가진 ‘2차원 반도체 소재’는 기존 연산 회로 위에 반도체를 더 쌓아 올려 반도체AI 칩의 성능을 극대화하고 전력 소모를 줄일 수 있는 차세대 소재로 주목받고 있다.
• 이를 실제 칩에 활용하기 위해선 필요한 위치에 품

반도체가 자라는 ‘시작점’까지 설계… 고집적·저전력 인공지능 반도체 구현의 새 길의 세부 일정과 참여 기관은 어떻게 구성됐나요?

• 발표 기관: 과학기술정보통신부
• 발표일: 2026-10-11
• 확인할 원문: 반도체가 자라는 ‘시작점’까지 설계… 고집적·저전력 인공지능 반도체 구현의 새 길

반도체가 자라는 ‘시작점’까지 설계… 고집적·저전력 인공지능 반도체 구현의 새 길 이후 이어질 계획은 무엇인가요?

국내 연구진이 반도체 결정의 생성 위치를 정하고, 그곳에서 하나의 결정만 자라도록 제어하는 기술을 개발해 차세대 적층형 AI인공지능 반도체 구현을 위한 기반을 마련했다.

과학기술정보통신부(부총리 겸 과학기술정보통신부 장관 배경훈, 이하 '과기정통부')는 한국과학기술원(KAIST) 강기범 교수와 울산과학기술원(UNIST) 김병조 교수, 한양대학교 김우희 교수, 티디에스이노베이션(TDS Innovation) 등이 참여한 공동연구팀이 산화물 장벽에서 나오는 화학 성분을 이용해 2차원 반도체 결정의 생성 위치를 정밀하게 제어하는 새로운 반도체 소재 성장 기술을 개발했다고 밝혔다.

후속 발표는 어디에서 확인하나요?

• 과학기술정보통신부 보도자료